常识氮气烘箱，百级洁净烘箱在光刻软烘烤工艺注意事项有哪些

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光刻加工中涂布后，所得的抗蚀剂膜将包含20-40%重量的溶剂。后涂覆烘烤工艺，也称为软烘烤或预烘烤，涉及在旋涂之后通过除去该过量溶剂来干燥光致抗蚀剂。减少溶剂含量的主要原因是使抗蚀剂膜稳定。

在室温下，光刻加工未烘烤的光致抗蚀剂膜将通过蒸发而损失溶剂，从而随时间改变膜的性能。通过烘烤抗蚀剂，去除了大部分溶剂，并且该膜在室温下变得稳定。从光致抗蚀剂膜上去除溶剂有四个主要效果:(1)减小膜的厚度;(2)曝光后烘烤并改变显影性能;(3)改善粘合性;(4)膜的粘性降低因此不易受到微粒污染的影响。

氮气烘箱，百级洁净烘箱用途:

洁净烘箱，百级尘烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

氮气烘箱，百级洁净烘箱技术参数：

尘等级：C100;

温度范围：RT～202250℃；

工作尺寸（）：

450×450×450

500×500×500

600×700×800（可定制）

氮气烘箱，百级洁净烘箱可扩展功能：

氧浓度检测，尘氧烘箱

真空氧烘箱

智能联功能，MES等工业自动化软件

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